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曝光機(jī)用于半導(dǎo)體制造,光電電子,平板,射頻微波,衍射光學(xué),微機(jī)電系統(tǒng),凹凸或覆晶設(shè)備和其他要求精細(xì)印 2022-07-28

曝光機(jī)即電子束曝光機(jī)是集電子光學(xué)、電氣、機(jī)勞力士手表http://m.wbiao.cn/rolex-watches/械、真空、計(jì)算機(jī)技術(shù)等于一體的復(fù)雜的半導(dǎo)體加工設(shè)備。

曝光機(jī)/光刻機(jī)

曝光機(jī)是20 世紀(jì) 60 年代初從掃描電子顯微鏡基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái),70 年代以后廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路制造業(yè)。

基本工作原理

在計(jì)算機(jī)的控制下,利用聚焦歐米茄手表http://m.wbiao.cn/omega-watches/電子束對(duì)有機(jī)聚合物(通常稱(chēng)為電子抗蝕劑或光刻膠)進(jìn)行曝光,受電子束輻照后的光刻膠,其物理化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化,在一定的溶劑中形成良溶或非良溶區(qū)域,從而在抗蝕劑上形成精細(xì)圖形。

應(yīng)用范圍

用于半導(dǎo)體制造,光電電子,平板,射頻微波,衍射光學(xué),微機(jī)電系統(tǒng),凹凸或覆晶設(shè)備和其他要求精細(xì)印制和精度對(duì)準(zhǔn)的技術(shù)要求。

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